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氧化铌靶材的研制
2012年4月5日


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    五氧化二铌靶材作为溅射镀膜用材料,被用于光学干涉滤波器电化色薄膜和气体传感器等领域,是等离子显示器重要的镀膜材料之一。项目通过自主创新,突破了粉末预处理、靶材热压工艺等关键技术,研制出了一整套具有自主知识产权的五氧化二铌靶材生产工艺技术,并建成年产3吨五氧化二铌靶材中试生产线。产品纯度达到了99.99%以上,密度达到了4.54 g/cm3,技术水平达到国内领先、国际先进水平;制定了“氧化铌靶材”企业标准;产品得到了韩国AVATEC公司的认证和使用,经济效益良好,市场前景广阔。

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